Über Plasma Electronic
- 1993 wurde die Plasma Electronic GmbH gegründet und sieht sich seitdem als Wegbereiter zur industriellen Nutzbarmachung der Niederdruck - Plasmatechnologie.
- 1995 wurden als Ergebnis intensiver marktorientierter Forschungsarbeit die ersten industriellen PECVD-Beschichtungsanlagen für Produktionsprozesse vertrieben.
- 2005 wurde das Produktspektrum um PVD-Anlagen erweitert, insbesondere Anlagen, in denen PVD und PECVD kombiniert ist.
- Seit 2010 können mit unserem neuen Entwicklungstool myplas erstmals ALD und PECVD in Kombination sowie PEALD Verfahren erprobt werden.
Plasma Electronic hat sich auf die Konzeption, die Konstruktion, den Bau und die Vermarktung von Plasmaanlagen spezialisiert. Schwerpunkte sind die Aktivierung und Feinstreinigung von Oberflächen und die Beschichtung von Oberflächen mit den Technologien PECVD, PVD, PEALD und deren Kombinationen. In unserem eigenen Prüflabor können Schichteigenschaften wie Härte, Schichtdicke, Oberflächenenergie und Oberflächenspannung erfasst und analysiert werden.
Auf über 1000 m² Produktionsfläche reicht das Spektrum der von Plasma Electronic angebotenen Anlagen- und Prozesstechnik von kleinen Laboranlagen für Forschung bis hin zu Groß- und Sonderanlagen für den Industrie-Einsatz. Es können Anlagen in der Dimension von 10 bis zu 8000 Liter Kammervolumen angeboten werden.
Plasma Electronic hat für verschiedene Anwendungen Prozesse entwickelt. Diese können verwendet werden zur Entfernung organischer oder Silikon-Verschmutzungen (Plasmaclean©), für bessere Benetzbarkeit und Haftung (Actiplas©), für dauerhaft hydrophile (Aquacer©) oder hydrophobe (Lipocer©) Beschichtungen, für harte Schichten mit geringem Verschleiß und niedrigem Reibungskoeffizienten (Carbocer©), für transparente Schutz- und "Anti-Fingerprint"-Schichten (Clearprotect©) und für dekorative, farbige Schichten (Decocer©).
