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PVD-Anlagen

Wir konstruieren und bauen Sonderanlagen für die  Methoden Sputtern und Lichtbogenverdampfen der Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD).

Hier sind Beispiele von PVD-Anlagen, die wir gebaut haben:

Kombinierte Lichtbogenverdampfungs- und PECVD-Anlage zur Beschichtung von Profilen von Duschkabinen mit Hartchrom
Kombinierte Lichtbogenverdampfungs- und PECVD-Anlage zur Beschichtung von Profilen von Duschkabinen mit Hartchrom. Die Profile werden aktiviert, anschließend  mit Chrom beschichtet und zuletzt mit einem Plasmapolymer beschichtet. Alle Prozessschritte werden in der selben Kammer ohne Transfers durchgeführt.
DC-Diodensputteranlage
Sonderanlage für DC-Diodensputtern. Diese Sputtermethode erlaubt es elektrisch leitfähige Schichten abzu- scheiden, die andere Eigenschaften haben als per Magnetron-Sputtern abgeschie- dene Schichten.
Dual Magnetron Sputteranlage
Sputteranlage mit einem Dual Magnetron. Damit ist es möglich, zwei Materialien gleichzeitig zu sputtern. Die Anlage wird für F&E an der Brandenburgisch Technischen Universi- tät Cottbus-Senftenberg eingesetzt.
Elektronenstrahl Sputteranlage
Sputteranlage bei der ein Elektronen- strahl eingesetzt wird, um das Material zu verdampfen, dass für die Beschichtung verwendet wird.
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