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CVD-PICCOLO
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Plasmaanlage Typ CVD-PICCOLO
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Spezifikation:
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| Gesamtaufbau: |
Standgerät, 1200 mm x 2000 mm x 950 mm (B x H x T) |
| Prozesskammer: |
Material: Edelstahl
Volumen: 45 l
Innenmasse: 350 mm x 300 mm x
430 mm (B x H x T)
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| Gasmengenregulation: |
Automatische Gasflussregler (MFC) |
| HF-Einspeisung: |
13,56 MHz mit automatischer HF - Matchwork |
| Sicherheitselemente: |
Induktiver kodierter Türsicherheitskontakt, NOT-AUS |
| Steuerung: |
IPC mit Farbdisplay, Siemens S7-SPS,
Visualisierungssoftware
ProTool Pro unter Windows© |
| Anschlusswerte: |
Strom: 400 V, 16 A, 50 Hz
Druckluft: 6 bar, wasser- und
ölfrei
Prozessgase: 1 bis 1,5 bar
Leistung: max. 3,5 kW
Wasser: 2 bis 3
bar, 1 bis 3 l/min. |
| Gewicht: |
Ca. 240 kg, ohne Vakuumpumpe
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| Vakuumpumpe: |
Vakuumpumpensystem |
| Sicherheit: |
Entspricht der gültigen CE-Norm |
Optionen:
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| Drucker und Modem: |
Ausrüstung mit Drucker, Modem für Fernwartung |
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